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    当整个半导体财产于废寝忘食地晋升微芯片的算力，激光技能的冲破性进展注定将于此中饰演要害脚色。高效出产是半导体行业乐成的要害，EUV 光刻机的可用性跨越了99%，而 EUV 光刻技能的焦点之一恰是激光脉冲。通快是今朝全世界独一一家能供给 EUV 光刻装备激光光源的厂商。

被时代遗弃的产品？

半导体光刻机的焦点是通快激光放年夜器

所有人都以为二氧化碳激光器已经日薄西山。这类 1990 年月金属加工界的 宿将 最先显患上有些粗笨 特别是由于这类激光器的光束不合适经由过程激光光纤传输。进入 21 世纪初，金属加工商纷纷转向更矫捷的光纤与碟片激光器。二氧化碳激光只被留于极度严苛及脏乱的事情情况。

激光技能初次为半导体行业的保存级难题提供了谜底

EUV 光最初的来历-

二氧化碳激光器中的受激混淆气体发出的光

2005 年先后，救赎却来自最意想不到的角落：恰是阿谁寻求超干净、超高精度的半导体行业，最先对于这台粗豪的二氧化碳激光器孕育发生稠密兴致。人们但愿它能帮忙解决芯片架构中的一个持久问题：怎样于更小的空间内集成更多的计较能力。也就是把微芯片继承缩小。该设法是将极紫外辐射（EUV）运用于光刻技能上，以于硅片上制造更邃密的晶体管电路。独一的问题是怎样孕育发生 EUV 光。成果证实，只有通快提供的高靠得住、高功率二氧化碳激光器，才能打出那束 引发光源 ，进而天生切合工业尺度质量的 EUV 光。

这远非半导体行业第一次、也不是独一一次乞助在激光技能。然而，EUV 这个案例的要害于在：激光第一次为芯片制造商的 保存级 难题 到哪里去找更强的计较力？ 给出了全新的谜底。而这也毫不会是激光末了一次阐扬要害作用。

转自：通快

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